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洁净室中的温湿度控制和测试参考洁净室的温湿

发布时间:2021-03-23 22:15 人气: 来源:

洁净室中的温湿度控制和测试参考洁净室的温湿度控制非常重要,不合适的温湿度会影响洁净效果。然而,温度和湿度的控制主要取决于工艺要求。高工艺意味着清洁度越高。湿度过高引起的问题更多。如果相对湿度超过55%,冷却水管壁会结露,如果发生在精密装置或电路上,会造成各种意外。相对湿度在50%时容易生锈。另外,湿度过高时,通过空气中的水分子将硅片表面附着的灰尘化学吸附在表面,难以去除。相对湿度越高,附着的东西越难去除,但相对湿度在30%以下时,由于静电力的作用,粒子也容易吸附在表面,大量的半导体部件容易破坏。硅片生产的最佳温度范围为35-45%。具体技术对温度的要求今后必须列举,但作为总体原则,加工精度越来越细致,对温度变动范围的要求越来越小。例如,在大型集成电路生产的光刻曝光技术中,作为口罩板材料的玻璃和硅片的热膨胀系数差的要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,引起0.24um线性膨胀,需要±0.1度的恒温,同时湿度值一般较低,人出汗后,产品有污染,特别是害怕钠的半导体现场,该现场不得超过25度。洁净室测试:打开盖子或解除肩带盖,开口只有18英寸。使用遮光罩的通风烟管、排烟在这里开放。这种烟应该立即看到被吸入内罩空间。如果不使用遮光罩,烟被推动,流动或在外面徘徊开幕。1、过滤器泄漏检测:检测高效过滤器及其外框,保证悬浮污染物不通过:损坏的过滤器、过滤器与其外框之间的间隙、过滤器装置的其他部分侵入室内。2、各区间气流控制:为证明各区间气流运动方向正确,即从清洁区间向清洁度差的区域流动,必须检查各区间压差正确、入口或墙壁、地板等开口气流运动方向正确,即从清洁区域向清洁度差的区域流动。3、悬浮粒子浓度和微生物浓度:如果上述测试符合要求,最后测量粒子浓度和微生物浓度(必要时),检测符合设计的技术条件。4、室内气流控制:气流控制测试的类型取决于气流模式-混合流还是单向流。气流为紊流时,必须确认室内没有气流运行不足的区域。如果是单向流洁净室,则必须确认整个室内的风速和风向符合设计要求。5、供气量和排气量:如果是紊流型,必须测量其供气量和排气量。如果是单向流型,则应测量其风速。6.隔离检漏:该测试是为了证明悬浮污染物不通过建筑材料侵入清洁车间。洁净小屋的测试主要是为了确保其整体性能符合相关标准,在使用中发挥最好的作用。,原文来源:http://www.ijiejingpeng.com/洁净小屋中的温湿度控制和测试参考

洁净小屋中的温湿度控制和测试参考洁净小屋的温湿度控制非常重要,不合适的温湿度影响洁净效果。然而,温度和湿度的控制主要取决于工艺要求。高工艺意味着清洁度越高。湿度过高引起的问题更多。如果相对湿度超过55%,冷却水管壁会结露,如果发生在精密装置或电路上,会造成各种意外。相对湿度在50%时容易生锈。另外,湿度过高时,通过空气中的水分子将硅片表面附着的灰尘化学吸附在表面,难以去除。相对湿度越高,附着的东西越难去除,但相对湿度在30%以下时,由于静电力的作用,粒子也容易吸附在表面,大量的半导体部件容易破坏。硅片生产的最佳温度范围为35-45%。具体技术对温度的要求今后必须列举,但作为总体原则,加工精度越来越细致,对温度变动范围的要求越来越小。例如,在大型集成电路生产的光刻曝光技术中,作为口罩板材料的玻璃和硅片的热膨胀系数差的要求越来越小。直径100um的硅片,温度上升1度,引起0.24um线性膨胀,需要±0.1度的恒温,同时湿度值一般较低,人出汗后,产品有污染,特别是害怕钠的半导体现场,该现场不得超过25度。洁净室测试:打开盖子或解除肩带盖,开口只有18英寸。使用遮光罩的通风烟管、排烟在这里开放。这种烟应该立即看到被吸入内罩空间。如果不使用遮光罩,烟被推动,流动或在外面徘徊开幕。1、过滤器泄漏检测:检测高效过滤器及其外框,保证悬浮污染物不通过:损坏的过滤器、过滤器与其外框之间的间隙、过滤器装置的其他部分侵入室内。2、各区间气流控制:为证明各区间气流运动方向正确,即从清洁区间向清洁度差的区域流动,必须检查各区间压差正确、入口或墙壁、地板等开口气流运动方向正确,即从清洁区域向清洁度差的区域流动。3、悬浮粒子浓度和微生物浓度:如果上述测试符合要求,最后测量粒子浓度和微生物浓度(必要时),检测符合设计的技术条件。4、室内气流控制:气流控制测试的类型取决于气流模式-混合流还是单向流。气流为紊流时,必须确认室内没有气流运行不足的区域。如果是单向流洁净室,则必须确认整个室内的风速和风向符合设计要求。5、供气量和排气量:如果是紊流型,必须测量其供气量和排气量。如果是单向流型,则应测量其风速。6.隔离检漏:该测试是为了证明悬浮污染物不通过建筑材料侵入清洁车间。洁净小屋的测试主要是为了确保其整体性能符合相关标准,在使用中发挥最好的作用。

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