洁净小屋的温湿度要求洁净小屋的温湿度主要取

洁净小屋的温湿度要求洁净小屋的温湿度主要取决于技术要求，但在满足技术要求的条件下，必须考虑人的舒适度。随着空气清洁度要求的提高，技术对温湿度的要求也越来越严格。具体技术对温度的要求今后必须列举，但作为总体原则，加工精度越来越细致，对温度变动范围的要求越来越小。例如，在大型集成电路生产的光刻曝光技术中，作为口罩板材料的玻璃和硅片的热膨胀系数差的要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，引起0.24um线性膨胀，需要±0.1度的恒温，同时湿度值一般较低，人出汗后，对产品有污染，特别是怕钠的半导体现场，该现场不得超过25度。湿度过高引起的问题更多。如果相对湿度超过55%，冷却水管壁会结露，如果发生在精密装置或电路上，会造成各种意外。相对湿度在50%时容易生锈。另外，湿度过高时，通过空气中的水分子将硅片表面附着的灰尘化学吸附在表面，难以去除。相对湿度越高，附着的东西越难去除，但相对湿度在30%以下时，由于静电力的作用，粒子也容易吸附在表面，大量的半导体部件容易破坏。硅片生产的最佳温度范围为35-45%。原文来源:http://www.ijiejingpeng.com/请求http://wwww.ijiejingpeng.com/请求httttenthenthenthenthenthentheng.com/请求

洁净小屋的温湿度主要根据工艺要求确定，但在满足工艺要求的条件下，必须考虑人的舒适度。随着空气清洁度要求的提高，技术对温湿度的要求也越来越严格。具体技术对温度的要求今后必须列举，但作为总体原则，加工精度越来越细致，对温度变动范围的要求越来越小。例如，在大型集成电路生产的光刻曝光技术中，作为口罩板材料的玻璃和硅片的热膨胀系数差的要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，引起0.24um线性膨胀，需要±0.1度的恒温，同时湿度值一般较低，人出汗后，对产品有污染，特别是怕钠的半导体现场，该现场不得超过25度。湿度过高引起的问题更多。如果相对湿度超过55%，冷却水管壁会结露，如果发生在精密装置或电路上，会造成各种意外。相对湿度在50%时容易生锈。另外，湿度过高时，通过空气中的水分子将硅片表面附着的灰尘化学吸附在表面，难以去除。相对湿度越高，附着的东西越难去除，但相对湿度在30%以下时，由于静电力的作用，粒子也容易吸附在表面，大量的半导体部件容易破坏。硅片生产的最佳温度范围为35-45%。

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