本工程为晶芯半导体在黄石基地新建的清洗工艺千级洁净棚，主要服务于8英寸及12英寸半导体晶圆生产过程中各类湿法清洗、表面处理及相关前道工艺环节。项目围绕“高洁净度、高稳定性、高可靠性”的目标进行设计与施工，采用组合式空气处理机组（MAU+FFU）、三级过滤（初效+中效+HEPA）、合理的送回风组织以及精密的温湿度控制系统，重点解决清洗区域对颗粒、金属离子、有机残留等污染物高度敏感的问题，为后续光刻、薄膜沉积等关键工序提供稳定可靠的工艺环境。
晶芯半导体是一家专注于集成电路芯片及功率器件制造的高新技术企业，在国内设有多处生产与研发基地，产品涵盖消费电子、工业控制、新能源汽车等多个应用领域。公司拥有成熟的晶圆制造工艺平台及完善的质量管理体系（通过 ISO 9001、ISO 14001 等认证），对洁净环境和工艺稳定性有着严格要求。本次在黄石基地新增清洗工艺千级洁净棚，是企业扩产及提升生产良率战略布局中的重要一环。
本洁净棚工程作为晶芯半导体12英寸晶圆再生项目的重要组成部分，于2024年第四季度启动建设，历时约4个月完成主体施工及系统调试。项目位于黄石经济技术开发区厂区主厂房内部，充分利用现有厂房空间进行改造升级。本工程严格遵循半导体行业洁净室设计规范，结合清洗工艺对微环境的高敏感性，采用“梯度控制、局部强化”的设计思路。核心清洗区按ISO 6级（千级）标准建设，针对晶圆最终清洗等关键工位，通过增设FFU（风机过滤单元）实现局部ISO 5级（百级）控制，确保关键暴露区域的空气洁净度满足工艺要求。
晶芯半导体（黄石）清洗工艺千级洁净棚项目视频
该项目由我们经验丰富的洁净室施工团队负责，该团队由5名项目经理、15名工程师和40名技术工人组成。所有成员均持有相关资质证书，并接受过专业的洁净室施工培训，从而确保了项目的高质量与按时完成。
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